国内科技这么发达，为什么至今造不出光刻机?看完算长知识了
自从被美国在芯片领域制裁之后，华为的芯片研发已经陷入了非常被动的地位。美国利用的武器就是现在几乎人人都知道的光刻机。这个看似简单但是科技含量异常高的机械设备在生产制造方面可谓是精工之中的精工，稳定之中的稳定。很多人觉得气不过，觉得咱们中国既然被制裁了，那么就要早点冲破。靠别人可能是不行了，那靠自己吧。
那么靠自己真的可以吗?理论上讲是的，但是现实却有点残酷。
首先我们需要搞清楚的一个概念是：美国制裁中国的芯片领域并不是全局，而是高端芯片。所谓高端芯片指的应该是5纳米工艺以为未来更精湛工艺的芯片。而中低端的芯片其实美国制裁不了咱们国家。而他们能够做到的就是在高端领域直接进行扼杀。
制造一台光刻机其实很难，因为他本来就不是一家之长的产品。即便它的生产商ASML在全球的垄断地位如此坚固，但其实在EUV光刻机的专利技术方面，ASML所掌握的总量也不过只有40%左右。剩下的60%均来自不同的国家，不用的供应商。集众家所长进行整体设计装载的设备本就是世界顶级科技集合的代表。可以说组成高端光刻机的很多技术水平咱们国家都比较欠缺。
光刻机最重要的光源咱们国家现在还没有能够解决，同时静谧的轴承稳定性和专业的镜头领域咱们国家也尚有欠缺。这些东西可以买吗?既然ASML能够订货咱们国家就不行吗?当然不行。因为美国等国家针对半导体业的普遍制裁行为可不是从华为开始的。这些制裁和限制就包括半导体芯片产业关键技术缓解供应链的禁售。长长的禁售名单，中国就在其中。
咱们中国并不是没有自己的芯片产业，比如说中芯国际实际上就是在世界上都比较知名的芯片制造商，包括很多军事方面的芯片生产制造，咱们中国主流芯片的制造其实还是比较顺利的。要知道整个世界7纳米制造工艺以下的芯片数量只有整体出货量的不到1%，而28纳米以上的却有超过90%的出货量。这足可见的现在的芯片市场并不是我们想象的那么"高端"。我们日常使用的电脑、智能设备的芯片甚至飞机导弹的芯片采用的其实都不是小纳米工艺。
现在咱们中国的光刻机产业最好的技术是28纳米技术，极限加工工艺在理论上是可以达到7纳米的。从这一点上来看，主流芯片的生产制造确实没有太大的问题。但是为什么我们依旧有浓浓的危机意识。那是因为，现在中低端芯片会随着时间慢慢向高端芯片演进，这是不能抗拒的发展节奏。所以掐住高端芯片掐住的不是现在，而是未来。
中国在光刻领域现在已经在通过各种方式奋起直追，但是能实现高端机器的制造需要的除了时间之外其实更多的还是来自各个供应商的支持。
